ご挨拶



代表取締役：重田　龍男

シンク・ラボラトリーのターゲットは、環境改善と、ロールtoロールによる電子部品への用途展開、持続発展できるグラビアを目指しております。

　この度、ドイツにて行われた世界最大の印刷関連展示会DRUPA 2008 において、新グラビア製版技術＜TSEF＞を発表しました。世界の多くの方々より、期待と励ましを頂いた事に感謝します。

　高品質で環境改善への水性グラビア化を進めている企業もありますが、現状のグラビアは、溶剤乾燥方式で、多量の有機溶剤が必要と、グラビア製版工程では、版面の硬質化で、６価Crを使用したCrめっきを必要としております。

　当社が開発を進めている新製版技術＜TSEF＞では、製版工程での６価Crを無くすCrFreeをさらに進め、下記の多くのメリットがあります。

　１）製版工程で、Crめっき、Cuめっき、腐食、彫刻工程が無い
　２）版の深度は、わずか９μmで、水性インキ、溶剤インキでのフイルム印刷において、実用濃度が得られ、大幅に、CO2,VOCの削減が期待できる
　３）高解像度化により、６μmのライン＆スペースが可能となり、電子部品等のロールtoロールでの応用分野の拡大が期待できる　

　現在、実用機において、印刷テストを行い、基本技術が確立した段階で、2009年中の、リリースを目標に開発、実用化を進めております。

　環境改善と、新分野の用途を見いだす試みを最大テーマとして、多くの協力企業の皆さんと推進して行きます。